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產品詳細頁
韓國NanoSystem非接觸光學表面形貌測量系統

韓國NanoSystem非接觸光學表面形貌測量系統

產品介紹

韓國NanoSystem非接觸光學表面形貌測量系統

型(xing)號:NanoView-1800/NanoView-2400/NanoView-2700

 

高精度非接(jie)觸(chu)式表面形貌(mao)檢(jian)測

無(wu)損(sun)3D表面輪廓分析

宜用平臺(tai)提供快速(su)、高效的(de)(de)工藝流(liu)程(cheng)的(de)(de)監控

全面、直觀的(de)軟件提供(gong)了式樣(yang)和應用靈活性

 

 

主(zhu)要(yao)功能

3D形貌測量

高,深,間(jian)隔(從納米(mi)級到5mm

粗糙度(du)(R參(can)數)表面(S參數)

面(mian)積(ji)(ji)信息(xi)(體積(ji)(ji),面(mian)積(ji)(ji))

2D測量

 

NanoView可靠性(xing)在許(xu)多應用領域發揮性(xing)能。

NanoView 提供(gong)完(wan)整的表(biao)面(mian)形貌(mao)納米測(ce)量和分析技術方案。

 

韓國NanoSystem非接觸光學表面形貌測量系統

NV-Serise技術參數

型號

NanoView-1800

NanoView-2400

NanoView-2700

測(ce)量原理

非接觸三維 白光掃描干涉法(WSI/移相干涉法(fa)(PSI

現場(chang)放大鏡

1.0×(標配)

1.0×(標配(pei))

1.0×(標配)

物(wu)鏡

單鏡頭

可選5個鏡頭(手動(dong)鼻(bi)輪)

可選5個(ge)鏡(jing)頭(tou)(自動鼻輪(lun))

光(guang)源

白光LED光源

掃描方式

閉環控制壓(ya)電促動掃描方式

縱向(xiang)掃(sao)描范(fan)圍

Max 270um(可拓展到:5mm

縱(zong)向掃描速度

12um/sec1X~5X倍率可選)

傾斜(xie)

±3°(樣品臺傾斜)

頭部傾斜±5°(手動(dong)模式(shi))

頭部傾斜±5°(自動(dong)模式)

縱(zong)向分(fen)辨率

WSI:0.5nm / PSI:0.1nm

橫向分辨率

0.2~4um(取決于物鏡/視場放大鏡倍率)

臺階重復性

0.5%1s

XY樣品臺(tai)行程

140×140mm(手動)

230×230mm(自(zi)動)

230×230mm(自(zi)動(dong))

XY樣品臺行程

50×50mm(手動)

100×100mm(手動)

100×100mm(自(zi)動)

Z軸行程

30mm(手動)

100mm(手動(dong))

100mm(自動)

環(huan)境要求

溫度:15~30℃,溫度變化量:<1/15min

濕度:<60%,無(wu)凝結

 


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